MeV加速(電子,正負中性ｲｵﾝ,ﾚﾝｽﾞ,ｻｲｸﾛﾄﾛﾝ)・装置(超高真空,封止,ｽﾃｯﾋﾟﾝｸﾞﾓｰﾀ,ﾌﾟﾗｽﾞﾏ照射,ﾗﾐﾈｰﾀ,高温炉,電子ﾋﾞｰﾑ溶接)中性子//ﾋﾞｰﾑ精工/

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技術

真空ﾁｬﾝﾊﾞｰ
真空駆動

電子ﾋﾞｰﾑ装置
RHEED

ｲｵﾝﾋﾞｰﾑ装置
ｲｵﾝ源　ｼﾝｸﾛﾄﾛﾝ

成膜装置

高温炉

中性子発生管
地雷探査

接合・ﾛｰ付
膜付加工

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商号　 株式会社ビーム精工
Beam Seiko Instruments Inc.
所在地　〒144－0052
東京都大田区蒲田2丁目10－1
大田区産学連携施設102
代表取締役　竹嶋正道
電話　 03-5480-6057
FAX 　 03-5480-6067
E-mail ： beamseiko@nifty.com
URL ： http://homepage2.nifty.
com/besko/
設立　　　2004年10月
資本金　　1000万円
取引銀行　東京三菱UFJ銀行　蒲田支店
　　　　　　事業案内
－スマートな製品つくりを目指しています－

真空機器の設計・製作
○ 荷電粒子加速系の設計・制作
　　シンクロトロン等周辺機器の設計・製作から
　　据付まで
○ アルミ製超高真空チャンバー
○ 超高真空用モータ及び超高真空内駆動機構
○ 薄膜製造装置
　　プラズマCVD成膜装置、熱CVD装置
　　スパッタ装置、抵抗加熱蒸着装置
　　微粉末デポジション薄膜製造装置
　　真空基板加熱ヒーター
○ プラズマ処理装置
○ 真空高温炉
○ 真空高温ラミネーター
○ 真空封止　拡散接合、ｾﾗﾐｯｸロー付け
　　ﾘｰｸﾀｲﾄな拡散接合、ｾﾗﾐｯｸﾛｰ付け可能です。

電子・イオン発生機器の設計・製作
○ 各種イオン源
　　PIG型/高周波型イオン源、金属イオン源
○ イオン・ミリング装置
○ 電子線照射装置
○ イオン・インプランター装置
○ 中性子発生管

　ビーム精工は大田区工場の中心部に位置し、真空技術をベースに電子やイオンの発生機器を設計・製作するエンジニアリンク゛会社です。わずか６人のスタッフですが技術と経験と周辺工場の協力により、機動力とサービス精神の中小企業を目指しています。
　お引き立ての程お願い申し上げます。

　

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ビーム精工の前身を含むビーム精工の技術と製品の歴史

　半導体用のイオン注入装置を最初に国産化し、以降イオン・プラズマ発生装置、加速器周辺機器のエンジニアリングで活躍しています。最近ではイオンを数千ボルトに加速し、超硬物質をナノレベルで加工する次世代半導体露光レンズ用のイオン・ミーリング装置の開発で高い評価を受けています。

　九州大学タンデム加速器の建設を通して、当時遅れていた日本の静電加速器技術を世界のレベルに引上げた実績を基に、第一戦で活躍する研究者と町工場をエンジニアリングで結び、新しい商品開発で実績を上げています。ナノ加工、ナノマテリアルが新しい産業として注目され、真空・電子・イオン技術がこれに役立つと確信します。

　 加速管の設計技術は九大タンデム・プロジェクトを成功に導き、超小型静電加速器DISK TRONの発明は、今日、イオンによる微量分析技術を支える基本機器要素となっています。最近では電子線で結晶構造の観察用RHEEDから加熱用大電流電子線加速装置まで多くの製品化に成功しています。

　小型中性子発生管は高速原子炉の特性試験用として使われています。原子炉や大型加速器でしか発生できない中性子がポータブルな密封管で発生できることは、今日大型施設でしか行われていない手荷物検査や、犬の臭覚に頼っている地中に埋没する地雷の探知に有用なセンサーとして期待されています。

　

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ビーム精工の技術/営業/製造の特質

　ﾋﾞｰﾑ精工は他社が困難とする仕様・技術・製品を引き受けてきました。お問い合せくだされは、今まで述べた要素技術や以下の基本技術・製品群を使い、課題を解決する手段を提供いたします。

　　　受注の流れと当社の技術

お問い合せに応じて、ビーム精工の技術から最適なシステムを提案いたします。
　ﾋﾞｰﾑ精工の要素技術は超高真空、真空内移動メカニズム、そしてプラズマ技術です。下の図の左はこれらの要素技術を示しています。
　右側は要素技術を使って仕上げた当社の製品です。中間はプラズマからのイオンの引出しや、原子核反応を起こして生成する中性子の技術を示しています。ここに示したもの以外にもたとえば真空ラミネータなど多くの製品を作ってきました。
　お問い合せいただければ、これらの技術を元にお客様と相談の上仕様を決定し、設計製作いたします。

　　　部品受託加工

当社独自で形状変化の少ない拡散接合、セラミックのロー付、またスパッタによる膜付を行っています。

　拡散接合とセラミックのロー付
　拡散接合はモリブデンマンガンロー付のような複雑な加工を必要とせず、しかも他の接合法全般に比べ部品の変形も少ない接合法です。一度お試しください。
　スパッタ膜付け
　　スパッタ膜は蒸着に比べ付着が強固で、緻密で良質な膜であるため、半導体業界のみならず、最近では蒸着が主流だった光学膜でもスパッタを採用する企業が増えています。表面保護や部品の装飾用のカラー膜として蒸着膜より高品質な膜として、サンプルなど承ります。

　　　研究開発用部品製作

優れた技術をもつ大田区の企業を紹介いたします。

　長年の大田区で製作を行ってきた関係で、多くの先端加工技術工場との取引があり、どの工場に製作依頼すればすばやく完璧に加工されるかを知っております。このような斡旋も当社ではやっております。ほとんど全ての加工において最先端の技術で低廉な価格で短納期が可能です。ご相談ください。

　

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アクセスマップ

ビーム精工　　大田区産学連携施設102号　大田区蒲田2-10-1　TEL03-5980-6057

●自動車
・環八でおいでの場合、蒲田郵便局前で東京方向に曲がり東邦医大通りに入り、ゆでたろう(蕎麦/うどん屋)の前の道を右折してください。直進し最初の十字路を右折すると旧小学校(産学連携施設その他の施設)が見えます。車一台分の駐車場スペースに車をとめてください。

・第一京葉国道の場合、大田体育館前を京急側(JR側)に曲がり二つ目の道を右折し、すぐの三叉路を左に行くと旧小学校(産学連携施設その他の施設)が見えます。小学校を右手に見て時計回りすると二つ目の玄関の所に車一台分の駐車場スペースがあります。駐車スペースの奥が施設入り口です。

●電車
・JR／東急をご利用の場合、蒲田駅東口を出て駅前ロータリーの左手の大きな道を5分ほど進み、幅30mくらいの呑川と交叉するあやめ橋の交差点を左折し、2分ほどにあるローソンのわきの道を右折します。
道なりに行くと左手に椿神社があり、左折し、さらにすぐある三叉路を左折すると小学校が眼前に見えます。小学校を右手に見て時計回りに歩きます。二つ目の入り口が小学校跡地を利用した産学連携施設の入り口です。この入り口は駐車スペースの奥です。(計15分)

・京急の場合、梅屋敷の駅出口の前の道を左折(JR側)してください。( 出口は一ヶ所)。１分歩き、マクドナルドの少し手前の最初の四つ筋を左折し、数分歩くと旧小学校が右手に見えます。
この小学校跡地が産学連携施設で、小学校の手前の道を右折すると1分ほどで入り口があります。駐車スペースの手前が施設入り口です。

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	商号　株式会社ビーム精工 Beam Seiko Instruments Inc. 所在地　〒144－0052 東京都大田区蒲田2丁目10－1 大田区産学連携施設102 代表取締役　竹嶋正道電話　 03-5480-6057 FAX 　 03-5480-6067 E-mail ： beamseiko@nifty.com URL ： http://homepage2.nifty. com/besko/ 設立　　　2004年10月資本金　　1000万円取引銀行　東京三菱UFJ銀行　蒲田支店	事業案内－スマートな製品つくりを目指しています－真空機器の設計・製作 ○ 荷電粒子加速系の設計・制作　　シンクロトロン等周辺機器の設計・製作から　　据付まで ○ アルミ製超高真空チャンバー ○ 超高真空用モータ及び超高真空内駆動機構 ○ 薄膜製造装置　　プラズマCVD成膜装置、熱CVD装置　　スパッタ装置、抵抗加熱蒸着装置　　微粉末デポジション薄膜製造装置　　真空基板加熱ヒーター ○ プラズマ処理装置 ○ 真空高温炉 ○ 真空高温ラミネーター ○ 真空封止　拡散接合、ｾﾗﾐｯｸロー付け　　ﾘｰｸﾀｲﾄな拡散接合、ｾﾗﾐｯｸﾛｰ付け可能です。電子・イオン発生機器の設計・製作 ○ 各種イオン源　　PIG型/高周波型イオン源、金属イオン源 ○ イオン・ミリング装置 ○ 電子線照射装置 ○ イオン・インプランター装置 ○ 中性子発生管

	受注の流れと当社の技術
	お問い合せに応じて、ビーム精工の技術から最適なシステムを提案いたします。　ﾋﾞｰﾑ精工の要素技術は超高真空、真空内移動メカニズム、そしてプラズマ技術です。下の図の左はこれらの要素技術を示しています。　右側は要素技術を使って仕上げた当社の製品です。中間はプラズマからのイオンの引出しや、原子核反応を起こして生成する中性子の技術を示しています。ここに示したもの以外にもたとえば真空ラミネータなど多くの製品を作ってきました。　お問い合せいただければ、これらの技術を元にお客様と相談の上仕様を決定し、設計製作いたします。
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